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J-GLOBAL ID：201702278136817930   整理番号：17A0301560

低誘電率ポリイミド複合材料の研究進展【JST・京大機械翻訳】

Research Progress in Preparation of Low Dielectric Constant Polyimide Matrix Porous Composites

著者 (3件)： Yang Daling (Faculty of Infrastructure Engineering Dalian University of Technology) ,  Han Xiaoqian (Faculty of Infrastructure Engineering Dalian University of Technology) ,  Wang Lijiu (Faculty of Infrastructure Engineering Dalian University of Technology)
資料名： Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao  (Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao)
巻： 34  号： 5  ページ： 843-847,829  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2657A  ISSN： 1673-2812  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マイクロエレクトロニクス産業の急速な発展により,層間絶縁材料に対するより高い要求が提案されている。ポリイミドは,その優れた熱安定性と低い誘電率のため,大規模集積回路の層間絶縁材料に広く使用されている。本論文では,低誘電率のポリイミド複合材料の調製法をレビューし,多面(POSS),多孔性SIO_2,モンモリロナイト,ポリオキソメタレート(POMS),およびグラフェン誘導体の導入により,ポリイミドの誘電率を低下させるための応用を紹介した。低誘電率ポリイミドの開発展望を予測した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 層間絶縁 ,  多孔性 ,  グラフェン ,  熱安定性 ,  モンモリロナイト ,  マイクロエレクトロニクス ,  *誘電率 ,  *ポリイミド ,  高速度 ,  LSI【IC】 ,  *複合材料
準シソーラス用語： ポリオキソメタレート ,  *低誘電率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： dielectric constant ,  polyimide ,  porous ,  inter-level dielectrics

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低誘電率 ,  ポリイミド ,  複合材料 ,  研究 ,  進展