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J-GLOBAL ID：201702278881068303   整理番号：17A0445634

反応性ガスパルススパッタリングによって作製したTiN薄膜の構造と性質に及ぼすN_2ガス噴射パラメータの影響【Powered by NICT】

Effect of N₂ gas injection parameters on structure and properties of TiN thin films prepared by reactive gas pulse sputtering

著者 (5件)： Yang Jijun (Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, Sichuan, China) ,  Peng Mingjin (Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, Sichuan, China) ,  Liao Jiali (Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, Sichuan, China) ,  Yang Yuanyou (Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, Sichuan, China) ,  Liu Ning (Key Laboratory of Radiation Physics and Technology, Ministry of Education, Institute of Nuclear Science and Technology, Sichuan University, Chengdu 610064, Sichuan, China)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 311  ページ： 391-397  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiN薄膜はN_2ガス注入の振幅Γと速度Vの関数としての反応性ガスパルス(RGP)スパッタリング法により堆積した。RGP TiN膜における組成傾斜と多層構造のハイブリッドアーキテクチャはN_2ガス噴射パラメータの広い窓で観察された。ハイブリッド構造は,Ti相とTiN相層から成り,前者のサブ層は組成勾配構造を持ち,後者はTiの一定の化学量論的比を維持した。そして構造に及ぼす射出パラメータと膜の性質の効果を調べた。膜の相構造は適度な範囲ΓとVで安定していたが,大きなVはTiN相サブ層の(111)から(200)配向への転移を誘導し,より小さなΓを単層Ti相膜が得られた。Γの増加は変調比σの減少と膜の変調周期∧の増加をもたらしたが,両σと∧はvの増加に伴って減少した。一方,膜のナノ硬度Hと電気抵抗率ρはΓあるいはVの増加,TiN相サブ層へのTi相の厚さ比に関係するとともに増加した。噴射パラメータ,構造とRGP TiN膜の特性との相関関係を詳細に検討した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 薄膜 ,  *スパッタリング ,  複合構造 ,  単一層 ,  *チタン ,  *噴射 ,  多層構造 ,  *反応性 ,  化学量論 ,  電気抵抗率
準シソーラス用語： ナノ硬さ ,  射出 ,  組成傾斜 ,  通気 ,  *窒化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： TiN膜 ,  反応性ガススパッタリング ,  構造 ,  性質

分類 (2件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (8件)： 反応性ガス ,  パルス ,  スパッタリング ,  作製 ,  TiN薄膜 ,  性質 ,  噴射 ,  パラメータ