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J-GLOBAL ID：201702279155843179   整理番号：17A0308864

化学パターン上のブロック共重合体の指向性自己組織化:ナノ加工のためのプラットフォーム【Powered by NICT】

Directed self-assembly of block copolymers on chemical patterns: A platform for nanofabrication

著者 (4件)： Ji Shengxiang (Key Laboratory of Polymer Ecomaterials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, 5625 Renmin Street, Changchun 130022, China) ,  Wan Lei (HGST-A Western Digital Company, 3403 Yerba Buena Road, San Jose, CA 95135, USA) ,  Liu Chi-Chun (IBM Albany NanoTech, 257 Fuller Road, Albany, NY 12203, USA) ,  Nealey Paul F. (Institute for Molecular Engineering, University of Chicago, 5747 South Ellis Avenue, Chicago, IL 60637, USA)
資料名： Progress in Polymer Science  (Progress in Polymer Science)
巻： 54-55  ページ： 76-127  発行年： 2016年03月 
JST資料番号： B0802A  ISSN： 0079-6700  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィー的に定義された化学的にナノパターン化表面(または化学的パターン)に及ぼすブロック共重合体(BCPs)の指向性自己組織化(DSA)は,従来のフォトリソグラフィーと高分子材料の利点を組み合わせ,半導体とデータ記憶応用のための製造制約の十分に包括的セットを満たすために有望であることを示した。DSAは学術と産業の双方から注目されていると多くの進歩は過去10年間で達成した。本レビューでは,集積回路とビットパターン媒体のためのデバイスの作製のための現在のリソグラフィープロセスへのブロック共重合体リソグラフィーの統合に向けた取り組みに重点を置いたDSAの開発を強調する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： リソグラフィー ,  データ蓄積 ,  *指向性 ,  フォトリソグラフィー ,  制約条件 ,  *自己組織化 ,  自己集合 ,  集積回路 ,  *ナノメータ加工 ,  パターン転写 ,  半導体 ,  *ブロック共重合体
準シソーラス用語： ブロック共重合体リソグラフィー ,  ビットパターン媒体 ,  高分子材料 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 指向性自己集合 ,  化学パターン ,  ブロック共重合体リソグラフィー ,  ナノ加工 ,  パターン転写 ,  ビットパターン媒体

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 化学 ,  ブロック共重合体 ,  指向性 ,  自己組織化 ,  ナノ加工 ,  プラットフォーム