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J-GLOBAL ID:201702279297930306   整理番号:17A0244818

ハロゲン化ポリアセンの表面拘束重合:Ag(110)上のジブロモテトラセンの場合

Surface-Confined Polymerization of Halogenated Polyacenes: The Case of Dibromotetracene on Ag(110)
著者 (14件):
資料名:
巻: 120  号:ページ: 4909-4918  発行年: 2016年03月10日 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高度に秩序化した有機薄膜の成長制御は,多くの潜在的な応用が期待される研究テーマである。芳香族分子(例えば,アセン,ナノグラフェン,リレン,およびポルフィリン)からなる極薄膜は,分子単位の化学的性質だけでなくそれらの結合性にも関連する特異的な特性を示す。分子ナノ構造の構造を制御し,それらの機能特性を調整する最も有望な戦略の1つは,ハロゲン化分子前駆体の表面支援重合である。特定の機能(例えば,電子的,磁気的,または触媒的性質)を持つ化学的に安定な中心分子ユニットは,炭素-ハロゲン結合の導入で官能化することができ,触媒金属表面上で解離し,それらの位置に反応部位を生成する。表面安定化したラジカルは,続いてC-C Ullmannカップリング反応により表面上で拡散し,互いに結合する。本論文では,Ag(110)基板上の5,11-ジブロモテトラセン(DBT)の表面支援温度刺激重合を研究した。C-Cカップリング工程が立体障害によって強く影響されるプロトタイプの平面ハロゲン化ポリアセン誘導体としてDBTを選んだ。STMとXPSをDFT計算と組み合わせて,Ag(110)表面上のDBT分子が脱ハロゲン化し,室温でAg配位プロトポリマー生成を実証した。テトラセンユニットは,長軸が[110]基板方向に沿って整列した状態で平坦である。この有機金属錯体は,573Kの温度まで安定である。サブモノレイヤ被覆度で共有ネットワークは形成されない。573Kより高い温度では,有機上層の大部分が脱着する。脱着温度および配位したポリマーの長さは,表面被覆度が影響する。有機金属二量体および三量体は,サブモノレイヤ被覆度において最も一般的な構成であるが,より長いオリゴマーは,1MLに近い呼び被覆度で達成できる。平らな幾何形状をもたらす基板-前駆体相互作用は,分子単位間の立体障害により,共有結合を阻害する。[110]原子行間の基板指向の吸着は,穏やかな温度での脱水素カップリングも抑制する。さらに,DBTフラグメントの表面移動度は,化学吸着した臭素原子との相互作用の影響を受ける。573K以上の温度にアニーリングすると,DBTフラグメントの大量の脱着が促進される。一方,表面安定化した有機金属ハイブリッドは,高温安定性を必要とするナノテクノロジー用途に,興味深い可能性がある。
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分類 (4件):
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重合反応一般  ,  四環以上の炭素縮合多環化合物  ,  固-固界面  ,  有機化合物の薄膜 
物質索引 (1件):
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