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J-GLOBAL ID:201702280103477973   整理番号:17A0705773

同時H_2産生とナノ多孔性光電極に及ぼすSO_2の除去【Powered by NICT】

Removal of SO2 on a nanoporous photoelectrode with simultaneous H2 production
著者 (5件):
資料名:
巻:号:ページ: 834-842  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2463A  ISSN: 2051-8161  CODEN: ESNNA4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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既存脱硫技術で一般的に必要とSO_3~に最終SO_4~II isの酸化過程。得られたSO_3~IIは通常処分の前に酸化のための空気でパージした。SO_3~にSO_4~II isのエネルギーこのプロセスで失われる。ここでは,ナノ多孔質BiVO_4光アノードに基づく有毒SO_2via光電気化学(PEC)水分解プロセスの除去による同時H_2生産について報告する。H_2生産の増強を光アノードへの水の直接酸化と比較して低い活性化エネルギーとSO_3~II酸化のより速い速度に起因する。増強因子である非多孔質膜よりも,ナノ多孔性膜上に有意に高かった。SO_2の除去率は97%以上であり,吸収されたSO_2は水素を生成した。高Faraday効率をもって,ナノポーラスBiVO_4に29.8μmol H~( 1)cm~ 2のH_2発生速度はSO_2の除去,なしSO_2除去(0.22μH~( 1)cm~ 2)よりはるかに速いが得られた。同時H_2生産とSO_2除去のための新しい方法を提供した。提案した方法は,脱硫吸収剤としてNaOHを含む過程,既存脱硫技術を組み合わせて用いることができるアンモニア脱硫法など。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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有害ガス処理法  ,  触媒操作 
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