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J-GLOBAL ID：201702280320253302   整理番号：17A0318576

硬石膏ホイスカのための新しい表面修飾法【Powered by NICT】

A novel surface modification method for anhydrite whisker

著者 (10件)： Hong Tianzeng (Qinghai Institute of Salt Lakes, Key Laboratory of Comprehensive and Highly Efficient Utilization of Salt Lake Resources, Chinese Academy of Sciences, Xining, Qinghai 810008, China) ,  Hong Tianzeng (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Hong Tianzeng (Key Laboratory of Salt Lake Resources Chemistry, Qinghai Province 810008, China) ,  Lv Zhihui (Qinghai Institute of Salt Lakes, Key Laboratory of Comprehensive and Highly Efficient Utilization of Salt Lake Resources, Chinese Academy of Sciences, Xining, Qinghai 810008, China) ,  Lv Zhihui (University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) ,  Liu Xin (Key Laboratory of Salt Lake Resources Chemistry, Qinghai Province 810008, China) ,  Li Wu (Qinghai Institute of Salt Lakes, Key Laboratory of Comprehensive and Highly Efficient Utilization of Salt Lake Resources, Chinese Academy of Sciences, Xining, Qinghai 810008, China) ,  Li Wu (Key Laboratory of Salt Lake Resources Chemistry, Qinghai Province 810008, China) ,  Nai Xueying (Qinghai Institute of Salt Lakes, Key Laboratory of Comprehensive and Highly Efficient Utilization of Salt Lake Resources, Chinese Academy of Sciences, Xining, Qinghai 810008, China) ,  Dong Yaping (Qinghai Institute of Salt Lakes, Key Laboratory of Comprehensive and Highly Efficient Utilization of Salt Lake Resources, Chinese Academy of Sciences, Xining, Qinghai 810008, China)
資料名： Materials & Design  (Materials & Design)
巻： 107  ページ： 117-122  発行年： 2016年 
JST資料番号： A0495B  ISSN： 0264-1275  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硫酸カルシウム硬石膏ホイスカ(CSAW,無水不溶性)は,無機-有機表面改質法で改質した。修飾CSAW(M CSAW)を電界放出走査電子顕微鏡(FESEM),X線粉末回折(XRD),Fourier変換赤外(FT IR)分光法,X線光電子分光法(XPS)及び熱重量分析(TG)により調べた。結果は,リン酸三ナトリウムとステアリン酸はCSAWに顕著な影響を持つことを示した。M CSAWの接触角は108.43°に達した。三ナトリウムリン酸塩は従来の方法(酸または塩基活性化アプローチ)と比較してCSAWの表面を活性化し,,化学反応はC00~およびCa~2+間のCSAWの表面で起こる。M CSAWはホイスカ/高分子複合材料へ適用できる可能性がある。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： Fourier変換 ,  *ホイスカ ,  リン酸 ,  *表面改質 ,  X線回折 ,  X線光電子分光法 ,  硫酸カルシウム ,  接触角 ,  *硬石膏 ,  熱重量分析 ,  不溶性 ,  脂肪酸
準シソーラス用語： 粉末X線回折 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 硬石膏ホイスカ ,  表面改質 ,  ステアリン酸 ,  化学吸着

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

物質索引 (1件)： ステアリン酸

タイトルに関連する用語 (3件)： 硬石膏 ,  ホイスカ ,  表面修飾