文献

J-GLOBAL ID：201702280349301956   整理番号：17A0354107

大気圧拡散放電によるCU表面のSIO_2薄膜の堆積を支援した。【JST・京大機械翻訳】

SiO_2-like Film Deposition on Cu Surface Assisted by Atmospheric Pressure Diffuse Discharge

著者 (6件)： Li Wenyao (Department of Electrical Engineering, Dalian University of Technology) ,  Wang Ruixue (Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Cheng (Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences) ,  Ren Chengyan (Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences) ,  Li Jie (Department of Electrical Engineering, Dalian University of Technology) ,  Shao Tao (Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Zhongguo Dianji Gongcheng Xuebao  (Zhongguo Dianji Gongcheng Xuebao)
巻： 36  号： 24  ページ： 6736-6742  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2285A  ISSN： 0258-8013  CODEN： ZDGXER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 大気条件下での分散放電は大面積、高エネルギー密度の低温プラズマを生成することができ、導体表面の薄膜堆積領域に広い応用前景がある。本論文では,大気圧下におけるCU表面上のSIO_2薄膜の堆積法を研究し,反応性前駆体として6を用い,正極性マイクロ秒パルス電源を用いて激発針-平板構造の分散放電を行った。放電過程と堆積膜の化学組成に対する異なる放電ガスの影響を検討した。実験結果により,アルゴンと空気を,それぞれ,放電電圧として用いたとき,前者は,同じ放電電圧で,より大きな放電出力,より強い発光スペクトル強度およびより高い蒸着効率を持った。FOURIER変換赤外分光法(FTIR)と水接触角測定の結果は,空気酸化膜の酸化度が高く,SIO_2薄膜に属することを示した。水接触角は85°であった。一方,AR蒸着膜はシリコン薄膜であり,その水接触角は100°であった。また,空気/アルゴンガス混合ガスの割合を最適化することにより,700SCCM空気/500SCCMアルゴン雰囲気下で酸化度の高い薄膜が得られ,その水接触角はさらに76°まで低下した。以上の実験結果により、大気圧拡散放電を用いて、CU表面にSIO_2薄膜を有効に堆積できることが分かった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 平板構造 ,  化学組成 ,  混合気体 ,  アルゴン ,  *放電 ,  最適化 ,  エネルギー密度 ,  蒸着膜 ,  反応性 ,  *薄膜
準シソーラス用語： シリコン薄膜 ,  水接触角 ,  放電電圧 ,  低温プラズマ ,  大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： point-to-plate electrode ,  positive microsecondpulse voltage ,  atmospheric pressure diffuse discharge ,  HMDSO ,  SiO_2-like film

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大気圧 ,  拡散放電 ,  Cu ,  薄膜 ,  堆積 ,  支援