文献

J-GLOBAL ID：201702282444199912   整理番号：17A0096561

エッチングプロセスに及ぼすICPプロセスパラメータの影響に関する実験的研究【JST・京大機械翻訳】

Experimental Study of the Influence of ICP Process Parameters on Etching of Pyrex Glass

著者 (7件)： Zhang Diya (North University of China, Ministry of Education) ,  Liang Ting (North University of China, Ministry of Education) ,  Liu Yutao (North University of China, Ministry of Education) ,  Wang Taolong (North University of China, Ministry of Education) ,  Li Wangwang (North University of China, Ministry of Education) ,  Yao Zong (North University of China, Ministry of Education) ,  Xiong Jijun (North University of China, Ministry of Education)
資料名： Chuangan Jishu Xuebao  (Chuangan Jishu Xuebao)
巻： 29  号： 8  ページ： 1149-1154  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2450A  ISSN： 1004-1699  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ICPエッチングに影響するプロセスパラメータには,反応器圧力,バイアスRF電力,アルゴン流量比が含まれる。直交実験の方法により,CHF_3とARの混合物を反応ガスとし,誘導結合プラズマ法によりガラスをガラスにエッチングした。回帰分析法を用いて,二次回帰方程式モデルを確立し,腐食速度と三つの因子の関係を記述した。実験結果によると、アルゴンの流量比率(総ガス流量(CHF_3+AR)は一定の)がエッチング速度に与える影響が最も大きく、影響程度の順序はアルゴンの流量比率、反応器圧力、バイアスRFパワーである。腐食速度と三つの因子の間の数学的表現は以下の通りであった。腐食速度==+++×AR×0.012×(バイアス)-0.964×圧力-圧力(×AR)-×AR×10(-バイアス)×10(-1)×10(-1)×10(-2)であった。実験結果は,数学的フィッティング結果が良好であることを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： バイアス ,  回帰分析 ,  電力 ,  *エッチング ,  アルゴン ,  誘導結合プラズマ ,  反応器 ,  腐食速度 ,  *プロセスパラメータ ,  ガラス
準シソーラス用語： エッチング速度 ,  ガス流量 ,  回帰式 ,  流量比 ,  *実験研究 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： inductively coupled plasma etching ,  Pyrex glass ,  orthogonal experiment ,  etching rate ,  mathematical fitting

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： エッチングプロセス ,  ICP ,  プロセスパラメータ ,  実験的研究