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J-GLOBAL ID:201702282721209180   整理番号:17A0735178

バッファ層の厚さが1064NM,532NMの膜の付着力に及ぼす影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】

Influence of buffer layer on adhesion of 1 064 nm, 532 nm frequency-doubled antireflection coating to LBO crystal
著者 (5件):
資料名:
巻: 21  号:ページ: 1343-1346  発行年: 2009年 
JST資料番号: C2482A  ISSN: 1001-4322  CODEN: QYLIEL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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電子ビーム蒸発法を用いて、LBO結晶上に无緩層と異なるバッファ層を持つ1064NM、532NMの二倍体層を調製した。分光光度計、ナノ力学総合試験システム及び調節Qパルスレーザー装置を用いて、サンプルの光学性能、付着力及び抗レーザー損傷性能に対して試験分析を行った。結果は以下を示す。すべてのサンプルの反射率は,1064NMと532NMの波長で,それぞれ0.1%と0.2%未満であった。ない試料と比較して,めっき_2O_3被覆層の付着性は%%増加し,SIO_2バッファ層の付着力は著しく増加したが,MGF_2バッファ層の挿入は膜の付着性を低下させた。膜の付着機構を,塑性理論と剪断理論を用いて解析した。SIO_2バッファ層は,薄膜のレーザ誘起損傷閾値を改良するのに役立つ。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】
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酸化物薄膜 
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