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J-GLOBAL ID：201702283000393782   整理番号：17A0471314

高周波マグネトロンスパッタリングにより成長したMgNiO薄膜の構造と光学的性質に及ぼすスパッタリングガス圧の影響【Powered by NICT】

The effect of sputtering gas pressure on the structure and optical properties of MgNiO films grown by radio frequency magnetron sputtering

著者 (7件)： Xie Wuze (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Jiao Shujie (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Wang Dongbo (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Gao Shiyong (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Wang Jinzhong (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Yu Qingjiang (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China) ,  Li Hongtao (School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 405  ページ： 152-156  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,MgNiO薄膜を,ラジオ周波数(RF)マグネトロンスパッタリングにより石英基板上に成長させた。MgNiO薄膜の結晶性と光学的性質に及ぼす種々のスパッタリング圧力の影響を研究した。X線回折測定では,MgNiO膜は(200)優先配向した立方晶構造であることを示した。UV-vis透過スペクトルは全てMgNiO薄膜は,可視領域で75%以上の透過率を示すと,すべての薄膜の吸収端はソーラーブラインド領域(220nm 280nm)に位置することを示した。MgNiO試料の格子定数とMg含有量をX線回折と透過スペクトルデータを用いて計算した。相分離を,X線回折パターンと透過スペクトルの両方で観察され,相分離は結晶成長理論とスパッタリングプロセスに基づいて詳細に研究した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *マグネシウム ,  X線回折 ,  *光学的性質 ,  透過率 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  優先配向 ,  *スパッタリング ,  吸収端 ,  格子定数 ,  結晶度 ,  *薄膜
準シソーラス用語： 可視領域 ,  透過スペクトル ,  石英基板 ,  *RFマグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： MgNiO薄膜 ,  高周波マグネトロンスパッタリング ,  太陽ブラインド ,  相分離

分類 (2件)： 光物性一般  (BM08010A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波マグネトロンスパッタリング ,  成長 ,  薄膜 ,  光学的性質 ,  スパッタリング ,  ガス圧