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J-GLOBAL ID：201702283022529504   整理番号：17A0391840

高性能光学合成石英ガラスの調製と応用【JST・京大機械翻訳】

Preparation and application of high-performance synthetic optical fused silica glass

著者 (5件)： Nie Lanjian (Quartz &Special Glass Institute,China Building Material Academy) ,  Wang Yufen (Quartz &Special Glass Institute,China Building Material Academy) ,  Xiang Zaikui (Quartz &Special Glass Institute,China Building Material Academy) ,  Wang Lei (Quartz &Special Glass Institute,China Building Material Academy) ,  Wang Hui (Quartz &Special Glass Institute,China Building Material Academy)
資料名： Guangxue Jingmi Gongcheng  (Guangxue Jingmi Gongcheng)
巻： 24  号： 12  ページ： 2916-2924  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2090A  ISSN： 1004-924X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では,化学蒸着,プラズマ化学蒸着,および間接的合成法を含む,光学的合成石英ガラスを調製するための一般的方法を紹介した。本論文では,異なる光学的石英ガラスの材料と特性を紹介し,異なる分野での応用について紹介した。これらの調製法の利点と欠点を比較し,それらの中で,化学的気相堆積プロセスは,最も成熟した商業化プロセスである。直径600MM以上,光学的均一性2×10(-6),およびレーザ誘起損傷閾値30J/CM2@355NMの高調製石英ガラスを調製することができた。プラズマ化学気相堆積法は,優れた品質,水酸基含有量≦5×10(-6),スペクトル透過率T_(190-4000NM)≧80%の全スペクトル透過性石英ガラスを調製することができる。間接的合成法の吸収係数は1×10(-6)/CM@1064NM,ヒドロキシル基≦1×10(-6),スペクトル透過率T_(157-4000NM)≧80%の石英ガラスであり,ドーピングと制御欠陥を容易にした。さらに,種々のドーピングの特別な機能を持つ石英ガラスを調製した。これらの調製プロセスは各利点と欠点があり、高光電技術分野の応用ニーズに応じて適切な調製技術を採用すべきである。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プラズマCVD ,  品質 ,  吸収係数 ,  気相 ,  スペクトル ,  *石英ガラス ,  商業化 ,  透過率 ,  化学蒸着
準シソーラス用語： 光電気 ,  透過性 ,  レーザ損傷閾値 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： optical fused silica glass ,  chemical Vapor Deposition(CVD) ,  plasma chemical vapor deposition ,  indirect synthetic method ,  review

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高性能 ,  光学 ,  石英ガラス ,  調製 ,  応用