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J-GLOBAL ID:201702283059198357   整理番号:17A0661083

単分子層MoS_2薄板圧延【Powered by NICT】

Rolling Up a Monolayer MoS2 Sheet
著者 (17件):
資料名:
巻: 12  号: 28  ページ: 3770-3774  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2348A  ISSN: 1613-6810  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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MoS_2ナノスクロールは単分子層MoS_2シート上のアルゴンプラズマ処理により形成された。ナノスケールスクロール形成はアルゴンプラズマ処理過程でMoS_2におけるトップ硫黄層の部分的な除去に起因している。この簡便な,無溶媒,高収率ナノスクロール作成法は,他の2d遷移金属二カルコゲン化物のための実行可能である。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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塩  ,  二次電池 
タイトルに関連する用語 (2件):
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