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J-GLOBAL ID:201702283357093244   整理番号:17A0302187

内皮における抑制光合成遺伝子によるPIF1を調節する色素体開発【Powered by NICT】

PIF1 Regulates Plastid Development by Repressing Photosynthetic Genes in the Endodermis
著者 (8件):
資料名:
巻:号: 10  ページ: 1415-1427  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2651A  ISSN: 1674-2052  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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フィトクローム相互作用因子(PIF)の変異は暗所での光合成遺伝子の異常な活性化を伴ったチラコイドをもつプラスチドに重力センシングに必要な内胚葉アミロプラストの変換を誘導する。本研究では,PIFは比較トランスクリプトーム解析を行うことにより内胚葉色素体発生を調節するかを調べた。PIF1の内胚葉発現とPIF四重項の全体的発現の両方がLHCAとLHCBのようなゲノムにコードされた光合成遺伝子の豊富な遺伝子の転写変化を誘導することを示した。比較トランスクリプトーム解析から同定した94共有差次的に発現した遺伝子の中で,14遺伝子のみがPIF1の直接標的であることを実証した,大部分の光合成遺伝子はなかった。共発現解析を用いて,著者らはPIFの直接標的であり,その発現パターンは多くの光合成遺伝子と強い負の相関を示したを同定した。はこの遺伝子レプレッサーの光合成GENES1(RPGE1)と命名した。RPGE1の内はい葉発現はpif四重(pifQ)変異体に見られる光合成遺伝子の発現上昇を救済し,アミロプラスト発達と胚軸の負の重力屈性を一部回復した。まとめると,著者らの結果は,RPGE1は光合成遺伝子を抑制し,色素体発生を調節する内皮におけるPIF1の下流で作用することを示す。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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植物生理学一般  ,  遺伝子発現 

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