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J-GLOBAL ID：201702285273036285   整理番号：17A0355417

磁性多層膜COFEB/NIの垂直磁気異方性研究【JST・京大機械翻訳】

Perpendicular magnetic anisotropy study of CoFeB/Ni multilayers by anomalous Hall effect

著者 (7件)： Ju Hailang (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Wang Hongxin (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Cheng Peng (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Li Baohe (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Chen Xiaobai (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Liu Shuai (School of Science, Beijing Technology and Business University) ,  Yu Guanghua (Department of Material Physics and Chemistry, University of Science and Technology Beijing)
資料名： Wuli Xuebao  (Wuli Xuebao)
巻： 65  号： 24  ページ： 247502-1-247502-6  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0628A  ISSN： 1000-3290  CODEN： WLHPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基板上にPTをベースとするCOFEB/NI多層膜構造を調製した。試料の異常ホール効果を測定することによって、多層膜の垂直磁気異方性(PERPENDICULAR MAGNETIC ANISOTROPY,PMA)を研究し、多層膜の垂直磁気異方性に影響する各要素に対して変調を行った。実験結果により、多層膜の底層厚さ、周期層中の各層層の厚さと周期数はサンプルの異常ホール効果と磁性に重要な影響を与えることが分かった。サンプルの各パラメータを段階的に調整することにより,最終的に,良好なPMAを有するPT/TI多層膜の最適PT(4)/[COFEB(0.4)/NI(0.3)]_3/PT(1.0)を得た。試験結果により,このサンプルの異方性定数K_(EFF)は2.2×106 3(1ERG/CM3=10(-1)J/M3)であり,サンプルの全厚みは7.1NMであることを示した。垂直磁気構造材料の厚さ要求を完全に満たすことができ、デバイスの集積と応用をさらに研究することができる。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 磁気構造 ,  *多層 ,  底層 ,  *垂直磁気異方性 ,  膜構造 ,  *磁性 ,  マグネトロンスパッタリング ,  異常Hall効果 ,  *異方性 ,  *多層膜
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *磁性多層膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： CoFeB/Ni multilayers ,  perpendicular magnetic anisotropy ,  anomalous Hall effect ,  anisotropy constant

分類 (4件)： 金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  その他の無機化合物の磁性  (BM06060P) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 磁性多層膜 ,  Ni ,  垂直磁気異方性 ,  研究