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J-GLOBAL ID：201702286193074528   整理番号：17A0061092

シリコン薄膜の薄膜とその高効率ナノ積層太陽電池への応用に関する研究【JST・京大機械翻訳】

SILICON-OXIDE ALLOY THIN FILMS AND THEIR APPLICATION IN HIGH EFFICIENCY NANOCRYSTALLINE SILICON TANDEM SOLAR CELL

著者 (9件)： Yu Fengzhi (Beijing University of Technology) ,  Hu Anhong (Hanergy Solar Group, R & D Center) ,  Yu Cao (Hanergy Solar Group, R & D Center) ,  Qu Minghao (Hanergy Solar Group, R & D Center) ,  Wang Tao (Sichuan Hanergy Photovoltaic Limited Co.) ,  Zhang Ming (Beijing University of Technology) ,  Yan Hui (Beijing University of Technology) ,  Zhang Jinyan (Hanergy Solar Group, R & D Center) ,  Xu Xixiang (Hanergy Solar Group, R & D Center)
資料名： Taiyangneng Xuebao  (Taiyangneng Xuebao)
巻： 37  号： 8  ページ： 1918-1924  発行年： 2016年 
JST資料番号： W0629A  ISSN： 0254-0096  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 2つの異なる形態のSI-SI合金薄膜を系統的に研究し,高周波数PECVDシステムによって調製した非晶質シリコン薄膜と納米硅Yang薄膜の特性,およびシリコン薄膜の太陽電池への応用を研究した。実験では、異なるガス流束の最適化、堆積パワーと堆積圧力の最適化により、それぞれ光学バンドギャップ約2.1EV、屈折率約3のA-SIO_Xを調製した。B:H膜は,2.2~2.5EVのバンドギャップ,2.2~2.5EVのバンドギャップ,20~50%の結晶度,および20~50%の結晶粒度を有する非晶質シリコンのトップ層として用いられる。P:H薄膜は,非晶質シリコン/ナノ積層電池の中間反射層とシリコンのボトム電池N2層とした。最後に,A-SIO_Xを最適化した。B:HとNC-SIO_X;P:H膜を,非晶質シリコン/ナノ結晶シリコン積層電池に適用した。0.79M2のガラス基板上で,初期のピークパワーは101.1W,初期の変換効率は12.8%,安定したピークパワーは87.3W,そして,全体の積層効率は11.1%であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 非晶質 ,  *薄膜 ,  バンドギャップ ,  最適化 ,  *太陽電池 ,  結晶度 ,  *ケイ素 ,  光学ギャップ ,  結晶粒度 ,  プラズマCVD ,  アモルファスシリコン
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  積層電池 ,  *積層 ,  *シリコン薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： solar cell ,  a-Si/nc-Si tandem cell ,  silicon-oxide alloy thin film ,  p type amorphous silicon-oxide film ,  n type nanocrystalline silicon oxide film

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン薄膜 ,  薄膜 ,  高効率 ,  太陽電池 ,  応用 ,  研究