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J-GLOBAL ID:201702287705148272   整理番号:17A0449171

プラズマ支援熱支援Se蒸気セレン化プロセスによるCu(In,Ga)Se2薄膜の成長と特性評価【Powered by NICT】

Growth and characterization of CIGS thin films by plasma-assisted and thermal-assisted Se vapor selenization process
著者 (6件):
資料名:
巻: 701  ページ: 732-739  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,種々の基板加熱温度でプラズマ支援Se蒸気セレン化(PASVS)プロセスによるセレン化電着Cu/In/Ga積層層の材料成長を調べた。比較のために,熱支援Se蒸気セレン化(TASVS)プロセスについても試験した。試料を150°Cでセレン化したときPASVSプロセスは,Cu-In-Ga混合相の分解と,Cu-SeおよびIn-Se二元相の形成を促進するのを助けることができるPASVSプロセスの使用は,同じ温度で元素インジウム損失を悪化させる。結果もPASVSプロセスは250°Cでセレン化中のGa-Se相の初期形成を活性化するのに役立つことを示した。PASVSプロセスは350°Cで表面領域付近の特定CuGaSe_2相を有する多孔質表面構造を生成するセレン化温度の上昇と共に,PASVSプロセスによるセレン化した膜は,結晶粒構造への傾向があるが,TASVSの1例における多角形構造である。PASVSプロセスは550°Cの温度で中程度のGa取り込みを持つ純粋なCIGS相を得るためによりできた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  太陽電池 

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