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J-GLOBAL ID：201702288169896041   整理番号：17A0388675

スイッチ可能高分子パターンの設計のための光応答性チオール-エンネットワーク【Powered by NICT】

Photo-responsive thiol-ene networks for the design of switchable polymer patterns

著者 (7件)： Radl S. V. (Polymer Competence Center Leoben GmbH, Roseggerstrasse 12, A-8700 Leoben, Austria. [e-mail]) ,  Schipfer C. ,  Kaiser S. ,  Moser A. ,  Kaynak B. ,  Kern W. ,  Schloegl S.
資料名： Polymer Chemistry  (Polymer Chemistry)
巻： 8  号： 9  ページ： 1562-1572  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2349A  ISSN： 1759-9954  CODEN： PCOHC2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,o-ニトロベンジルエステル(o NBE)基の光異性化を組み合わせた光誘起「クリック」反応の利点によるチオール-エンネットワークの光パターン化可能な分解を明らかにした。O NBEリンクを持つ光応答性アルケン単量体を合成し,架橋ラジカル媒介チオール-エン化学による選択された多機能チオールであった。可視光(λ>400 nm)によるイニシエーションを追求することにより,単量体の迅速で効率的な光重合をO NBEリンクの光開裂を誘導することなく温和な条件下で得られた。共有結合の開裂を含むUV誘起(λ<400 nm)光分解はチオール架橋剤の機能性により制御され,ゾル-ゲル分析によって証明した。溶解度における波長依存性変化は,フォトリソグラフィープロセスによる薄い重合体膜中の刻んだである高分子パターンの設計に適用し,顕微鏡法によって特性化した。負トーンパターンは可視光曝露単量体のラジカル光重合によって達成されるその後のUV照射は,チオール-エンネットワークの空間的に制御された光分解によるポジパターンへの切り替えを可能にし,4μmの分解能を有する表面レリーフパターンを達成した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光分解 ,  *チオール ,  波長依存性 ,  光重合 ,  パターン形成 ,  紫外線照射 ,  顕微鏡観察 ,  アルケン ,  可視光 ,  光異性化 ,  キャラクタリゼーション ,  共有結合 ,  単量体 ,  溶解度
準シソーラス用語： *光応答 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 重合触媒,重合開始剤  (CG04070V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高分子 ,  設計 ,  光応答 ,  チオール