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J-GLOBAL ID：201702289647948365   整理番号：17A0160749

熱フィラメントCVD蒸着ダイヤモンド膜におけるプラズマ空間分布の研究【JST・京大機械翻訳】

The Effect of Plasma Spatially Resolved During Diamond Film Deposited with HFCVD

著者 (8件)： Yi Cheng (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Wang Chuanxin (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Fan Yongzhi (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Dai Kai (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Ma Zhibin (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Wang Shenggao (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Man Weidong (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology) ,  Wu Chao (Province Key Laboratory of Plasma Chemistry and Advanced Materials, School of Materials Science and Technology, Wuhan Institute of Technology)
資料名： Guangpuxue yu Guangpu Fenxi  (Guangpuxue yu Guangpu Fenxi)
巻： 36  号： 8  ページ： 2601-2606  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2093A  ISSN： 1000-0593  CODEN： GYGFED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ダイヤモンド膜を,炭素源としてアセトンを用いて,熱化学的気相堆積(CVD)法により成長させ,プラズマ発光スペクトルを用いて,成長過程中のプラズマの空間分布をオンラインで診断した。走査型電子顕微鏡(SEM)とRAMANスペクトルを用いて,ダイヤモンド膜の表面と断面のモルフォロジーと品質を特性評価した。スペクトル解析は,中心領域とエッジ領域の間の基底分布の差異があり,中心領域の温度が高く,熱分解能が強いことを示し,そして,中心領域のピーク強度の変化は,などのものよりも大きかった。熱フィラメントが遠いほど、熱輻射が小さくなり、アセトン分子からCHとCOなどの基を分解し、原子Hによって励起されるHとΑなどの強度が低下し、逆に複合的に生成したC_2基が増加する。SEMの結果によると、Si基の間隔が4.5、5.5、6.5MMの時、沈積したダイヤモンド薄膜の表面は緻密な規則結晶から混乱し、しかも単位時間内の成長速度も順次低下し、また、RAMANスペクトルは縦方向の間隔の増大に伴っていることが分かった。ダイヤモンド薄膜の品質は低下した。これらの結果は,CH_4とCOの強度が減少し,C_2基の強度が増加し,C_2/H_2比が減少することを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  ケイ素 ,  キャラクタリゼーション ,  スペクトル ,  スペクトル解析 ,  *プラズマ ,  *フィラメント ,  モルフォロジー ,  気相 ,  成長速度 ,  *空間分布 ,  熱分解 ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： *ダイヤモンド膜 ,  *HFCVD , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： HFCVD ,  Diamond films ,  OES ,  Plasma distribution

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： アセトン

タイトルに関連する用語 (6件)： 熱フィラメントCVD ,  蒸着 ,  ダイヤモンド膜 ,  プラズマ ,  空間分布 ,  研究