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J-GLOBAL ID:201702289665960138   整理番号:17A0364876

Alとガラス基板上の超疎水性ZnAl複水酸化物ナノ構造とZnO膜【Powered by NICT】

Superhydrophobic ZnAl double hydroxide nanostructures and ZnO films on Al and glass substrates
著者 (2件):
資料名:
巻: 185  ページ: 195-201  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0934A  ISSN: 0254-0584  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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超疎水性ナノ構造ZnAl層状複水酸化物(LDH)とZnO膜はAlとガラス基板上に作製した,それぞれ,簡単で経済的な化学浴析出法によって調べた。ZnAl:LDHs薄いナノプレートのランダムに配向した六方晶パターンを走査電子顕微鏡画像中のAl基板上に明確に観測した。これらの六方晶板の平均サイズは厚さの~4μm側と~30nmであった。がガラス基板上に配向した六方晶パターン化ZnOナノロッド(高さ~5μmと直径1μm)が観察され,各ロッドは,いくつかのステップを持つトップ数ナノメートルで修飾されている。ナノロッドの先端では,~250nmの辺を有する完全六方晶パターン化ZnO表面が観察された。六方晶形態学的特徴を形成する傾向はX線回折パターンと透過型電子顕微鏡像から確認されたZnOの六方晶結晶構造によるものであった。ZnAl:LDHsおよび/またはZnO被覆基板はステアリン酸(SA)分子を用いて不動態化した。不動態化したZnAl:LDH被覆基板の赤外スペクトルは,SAの存在を確認した。X線回折パターンも赤外スペクトルの結果を確証した。調製したままの試料の接触角はゼロである。超疎水性は,Al基板の~4°のヒステリシスを持つ~161°の接触角を観測することにより達成した。ガラス基板について,~3°の低いヒステリシスを持つ~168°の高い接触角を観測した。ガラス基板上のZnO層上で測定した6.87μmのより高い表面粗さと比較して~4.93μmの表面粗さの低さはAl基板上のZnAl:LDHs表面層で測定した。二つの異なる基板上に不動態化したナノ構造膜の超疎水性は,高い表面粗さと低い表面エネルギーに起因して観察された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
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金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  ,  酸化物薄膜  ,  塩基,金属酸化物 

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