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J-GLOBAL ID:201702290026320366   整理番号:17A0443940

10nm厚金膜の抵抗と熱膨張係数の温度係数【Powered by NICT】

Temperature coefficient of resistance and thermal expansion coefficient of 10-nm thick gold films
著者 (6件):
資料名:
巻: 623  ページ: 84-89  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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膜/基板系におけるナノメータ範囲の厚さを有する金属膜の抵抗(α)と熱膨張係数(α)の温度係数を同時に推定する方法を検討した。熱抵抗率と室内条件で得られた実験データからの金属膜のαとα_を推定するための圧電抵抗効果を考慮した解析モデルを提案した。方法論は最初にバルクに近い値を100nm厚Au膜を用いて検証し,報告されている値に信頼性を与えた。提案した方法は,二基板上に三蒸着速度での熱蒸発により蒸着した10nm厚さのAu膜のαとα_を得るために用いた。結果は10nm厚さのAu膜のα_は以前の報告よりも類似した値を示すことを示した,一方α_は対応するバルクの値よりも5~6倍高かった。膜蒸着中の原子の配列はこのような熱的パラメータのほんのわずかな変化を生じた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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固体の機械的性質一般  ,  酸化物薄膜  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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