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J-GLOBAL ID：201702290074196947   整理番号：17A0124796

ウエハレベルでの酸化イリジウム神経電極の作製【Powered by NICT】

Fabrication of iridium oxide neural electrodes at the wafer level

著者 (13件)： Zhang He (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Pei Weihua (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Zhao Shanshan (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Yang Xiaowei (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Liu Ruicong (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Liu Yuanyuan (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Wu Xian (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Guo Dongmei (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Gui Qiang (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Guo Xuhong (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Xing Xiao (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Wang Yijun (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences) ,  Chen Hongda (Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences)
資料名： Science China. Technological Sciences  (Science China. Technological Sciences)
巻： 59  号： 9  ページ： 1399-1406  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2578A  ISSN： 1674-7321  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電着,電気的活性化,熱酸化,および反応性イオンスパッタリングは,酸化イリジウム膜を作製するための四つの主要な方法である。これらの方法の中で,反応性イオンスパッタリングは,標準的な微細加工プロセスで一般的に使用される方法である。異なるスパッタリング条件では,酸化イリジウムの成分,組織,および電気化学特性はかなり変化した。神経電極のウエハレベル処理と互換性のある酸化イリジウム膜を作製するために,酸化イリジウム膜の品質は後処理の機械的および化学的衝撃に耐え,同時に神経電極として良好な性能を達成することができなければならない。本研究では,スパッタリングのパラメータを研究し,電極上に酸化イリジウム膜の機械的安定性と良好な電気化学的特性の間のバランスを達成するために開発した。シリコン電極の製作フローと結合したイリジウム酸化物作製プロセス,ウエハレベルでは,シリコンベースプレーナ酸化イリジウム神経電極を製造するために導入した。裸金電極と比較して,この方法を用いて作製した酸化イリジウム電極は良好な電気化学的安定性,1kHzで386の低インピーダンス,3.2mC/cm~2の高い安全な電荷貯蔵容量,および25%以下の変動の良好なインピーダンス整合性を示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 後処理 ,  反応性 ,  金電極 ,  電着 ,  帯電 ,  衝撃 ,  イオンビームスパッタリング ,  微細加工 ,  *酸化イリジウム ,  インピーダンス ,  熱酸化 ,  ケイ素 ,  スパッタリング
準シソーラス用語： 電気化学的特性 ,  *神経電極 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 反応性イオンスパッタリング ,  酸化イリジウム ,  ウエハレベル ,  神経電極

分類 (2件)： 分析機器  (CC02020S) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (4件)： ウエハレベル ,  酸化イリジウム ,  神経電極 ,  作製