特許
J-GLOBAL ID:201703004883612772
高濃度有機溶液の処理方法および処理装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人R&C
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-185972
公開番号(公開出願番号):特開2017-056452
出願日: 2015年09月18日
公開日(公表日): 2017年03月23日
要約:
【課題】簡便かつ低コストで、高濃度有機溶液を生物処理するにあたって、高濃度有機溶液を希釈しても発酵阻害が生じにくいように処理する技術を提供すること。【解決手段】高濃度有機溶液1aを希釈水により希釈して希釈溶液3aを得る希釈部3と、希釈溶液3aを生物処理する生物処理部(4,5,6,8)とを備え、希釈部3に、高濃度有機溶液1aと低濃度溶液2aとを浸透膜30を介して接触させ、低濃度溶液側から高濃度有機溶液側に浸透水を浸透させて、浸透水を希釈水とする正浸透膜法により、高濃度有機溶液1aを希釈した希釈溶液3aを得る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
高濃度有機溶液を希釈水により希釈して希釈溶液を得る希釈工程を行い、
前記希釈溶液を生物処理する生物処理工程を順次行う高濃度有機溶液の処理方法であって、
前記希釈工程において、前記高濃度有機溶液と低濃度溶液とを浸透膜を介して接触させ、前記低濃度溶液側から前記高濃度有機溶液側に浸透水を浸透させて、前記浸透水を前記希釈水とする正浸透膜法により、前記高濃度有機溶液を希釈した前記希釈溶液を得る高濃度有機溶液の処理方法。
IPC (3件):
B01D 61/00
, C02F 1/44
, C02F 3/28
FI (4件):
B01D61/00 500
, C02F1/44 K
, C02F3/28 Z
, C02F3/28 B
Fターム (20件):
4D006GA14
, 4D006KA64
, 4D006KA72
, 4D006KB23
, 4D006KB24
, 4D006MA40
, 4D006PA01
, 4D006PB07
, 4D006PB08
, 4D006PB70
, 4D006PC80
, 4D040AA02
, 4D040AA04
, 4D040AA12
, 4D040AA23
, 4D040AA26
, 4D040AA32
, 4D040AA34
, 4D040AA42
, 4D040AA62
前のページに戻る