特許
J-GLOBAL ID：201703004961590420

断層構造の観測方法、観測装置、及びコンピュータプログラム

発明者：
尾崎 信彦

尾崎 信彦 について

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西 剛史

西 剛史 について

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杉本 喜正

杉本 喜正 について

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池田 直樹

池田 直樹 について


出願人/特許権者：
国立大学法人 和歌山大学

国立大学法人 和歌山大学 について


代理人 (1件)： 特許業務法人サンクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-206611
公開番号（公開出願番号）：特開2017-078632
出願日： 2015年10月20日
公開日（公表日）： 2017年04月27日
要約：
【課題】光吸収層を有する断層構造を光コヒーレンストモグラフィによって観測する。【解決手段】観測対象である断層構造を、光コヒーレンストモグラフィにより観測する。観測対象30である断層構造は、光源スペクトルの少なくとも一部の波長の光を吸収する光吸収物質からなる光吸収層を有する。断層構造に、光源から測定光を照射する。測定光が断層構造から反射した反射光と参照光との干渉光に基づいて、断層構造の反射光プロファイルを生成する。反射光プロファイルと、それぞれが異なる層厚の模擬光吸収層を有する複数の模擬断層構造における複数の光伝搬シミュレーション結果と、を比較する。反射光プロファイルに最も合致する光伝搬シミュレーション結果を得るためのシミュレーションの対象となった模擬光吸収層の層厚を、観測対象30である断層構造が有する光吸収層の層厚として決定する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
観測対象である断層構造を光コヒーレンストモグラフィにより観測する方法であって、 光源スペクトルの少なくとも一部の波長の光を吸収する光吸収物質からなる光吸収層を有する前記断層構造に、光源から測定光を照射するステップと、
IPC (4件)：
G01N 21/17 ,  G01B 11/06 ,  G01B 11/24 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G01N21/17 630 ,  G01B11/06 G ,  G01B11/24 D ,  H01L21/66 N ,  H01L21/66 P
Fターム (43件)：
2F065AA30 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065CC31 ,  2F065DD04 ,  2F065FF52 ,  2F065GG02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065LL68 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR10 ,  2F065UU05 ,  2G059AA05 ,  2G059BB10 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059HH01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH03 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106CA48 ,  4M106CA51 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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