ハイドロゲルの製造方法、包括対象物の包括方法、および包括対象物の放出方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2015062458
公開番号（公開出願番号）：WO2015-159995
出願日： 2015年04月16日
公開日（公表日）： 2015年10月22日
要約：

低いペルオキシダーゼ濃度条件、生理条件下においてポリエチレングリコールのハイドロゲルを作製することが可能なハイドロゲルの製造方法を提供する。2つ以上のチオール基を有するポリエチレングリコールを、フェノール化合物の存在下でペルオキシダーゼを用いて架橋させるハイドロゲルの製造方法である。

請求項（抜粋）：

2つ以上のチオール基を有するポリエチレングリコールを、フェノール化合物の存在下でペルオキシダーゼを用いて架橋させることを特徴とするハイドロゲルの製造方法。

IPC (4件)：

C12P 11/00 , C08G 75/14 , A61K 9/06 , A61K 47/34

FI (4件)：

C12P11/00 , C08G75/14 , A61K9/06 , A61K47/34

Fターム (48件)：

4B029AA21 , 4B029BB11 , 4B029CC02 , 4B029CC03 , 4B029CC07 , 4B029CC10 , 4B033NA16 , 4B033NB03 , 4B033NB34 , 4B033NB63 , 4B033NC06 , 4B033NC12 , 4B033ND12 , 4B033ND20 , 4B033NF06 , 4B033NF07 , 4B064AE61 , 4B064CA21 , 4B064CB11 , 4B064CB30 , 4B064CC03 , 4B064CC04 , 4B064CC09 , 4B064CD04 , 4B064CD06 , 4B064CD13 , 4B064CD17 , 4B064DA01 , 4B064DA20 , 4B065AA90X , 4B065BC46 , 4B065BD25 , 4B065BD50 , 4B065CA44 , 4C076AA09 , 4C076AA94 , 4C076CC47 , 4C076EE23P , 4C076EE45P , 4C076FF31 , 4C076FF35 , 4J030BA05 , 4J030BA42 , 4J030BB06 , 4J030BC34 , 4J030BF17 , 4J030BF19 , 4J030BG32

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