特許
J-GLOBAL ID：201703010591694794
開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-021715
公開番号（公開出願番号）：特開2014-152213
特許番号：特許第6091232号
出願日： 2013年02月06日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 平均アスペクト比が1.2以上であるナノロッドの表面の一部にキャップ剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面の一部に前記キャップ剤が結合したキャップ剤修飾ナノロッドを得る工程と、
前記キャップ剤修飾ナノロッドを得る工程の後に、前記ナノロッドの前記キャップ剤が結合していない表面に重合開始基を有する開始剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面に前記キャップ剤及び前記開始剤が結合した開始剤修飾ナノロッドを得る工程と、
を含み、
前記キャップ剤及び前記開始剤が臭素原子を含む、
ことを特徴とする開始剤修飾ナノロッドの製造方法。
IPC (4件)：
C08F 4/00 ( 200 6.01)
, C08F 292/00 ( 200 6.01)
, C01B 13/14 ( 200 6.01)
, C09K 19/54 ( 200 6.01)
C08F 4/00
, C08F 292/00
, C01B 13/14 A
, C09K 19/54 Z
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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