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J-GLOBAL ID：201802211452265382   整理番号：18A0220131

NiFe2O4薄膜の磁気的性質を,新しいパッケージ法に基づいて試験した。【JST・京大機械翻訳】

Analysis of Mechanical-magnetic Coupling Characteristics of NiFe2O4 Thin Film Based on Modified Bulge Tests

著者 (9件)： Sun Zhangzhen (湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭,411105) ,  He Yuandong (湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭,411105) ,  Mao Weiguo (湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭,411105) ,  Gu Yang (湘潭大学材料科学与工程学院,湘潭,411105) ,  Mao Yiqi (湖南大学机械与運載工程学院,長沙,410082) ,  Zhang Honglong (北京大学工学院,北京,100871) ,  Chen Yanfei (北京大学工学院,北京,100871) ,  Pei Yongmao (北京大学工学院,北京,100871) ,  Fang Daining (北京理工大学先進結構技術研究院,北京,100081)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 31  号： 15  ページ： 145-148  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： NiFe_2O_4(NFO)薄膜の磁気的性質を特性化するために,新しく開発された新しい多場カップリング試験システムと開発した強磁性材料の磁気力構成方程式に基づいて,ゾル-ゲル法と化学エッチング法を用いて,NFO薄膜を調製した。異なる磁気力の条件下で,NFO薄膜の磁気-磁気結合特性を研究した。結果は,NFO薄膜の弾性率と残留応力は,0Oeの印加磁場において,それぞれ187.8GPaと500.8MPaであることを示した。印加磁場の増加に伴い,NFO薄膜の弾性係数は,0Oeの187.8GPaから800Oeの484.6GPaまで徐々に増加した。磁気歪係数は,200Oeのとき,-94.2×10-6から800Oeに増加したとき,-326.2×10-6であった。圧力が0kPaから50kPaに増加したとき,残留磁化は75%減少し,保磁力は44%減少した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 磁歪 ,  *磁気的性質 ,  強磁性 ,  弾性係数 ,  *磁気 ,  残留磁化 ,  残留応力 ,  *薄膜 ,  ウェットエッチング ,  保磁力 ,  構成方程式 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 印加磁場 ,  磁気結合 ,  磁気力 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ferromagnetic thin film ,  bulge test ,  elastic modulus ,  residual stress ,  magnetostriction coefficient

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  磁気的性質 ,  パッケージ ,  試験