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J-GLOBAL ID：201802216285994479   整理番号：18A1785284

一軸延伸過程におけるダブルネットワークゲルのin-situ小角X線散乱

著者 (6件)： 深尾一城 (北大 大学院) ,  野々山貴行 (北大) ,  中島祐 (北大) ,  黒川孝幸 (北大) ,  河井貴彦 (群馬大 大学院) ,  GONG Jian Ping (北大)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 2  ページ： ROMBUNNO.3Pc025  発行年： 2018年08月29日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲル ,  ネットワーク構造 ,  *延伸 ,  小角X線散乱 ,  *内部構造 ,  生体適合性高分子
準シソーラス用語： *ダブルネットワークゲル ,  一軸延伸

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 一軸延伸 ,  過程 ,  ダブルネットワークゲル ,  小角X線散乱