文献
J-GLOBAL ID:201802218784648558   整理番号:18A1696113

スパッタリング法によるZn過剰ZnO薄膜の作製と発光特性の評価

著者 (7件):
資料名:
巻: 2018  号: ソサイエティ大会  ページ: ROMBUNNO.C-6-3  発行年: 2018年08月28日 
JST資料番号: G0508B  ISSN: 1349-144X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
薄膜成長技術・装置  ,  固体デバイス製造技術一般 

前のページに戻る