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J-GLOBAL ID：201802223901942787   整理番号：18A1143216

電子線照射によるビスマステルル系合金薄膜の微細結晶構造の評価

著者 (2件)： 高橋萌々子 (東海大 大学院工学研究科) ,  高尻雅之 (東海大 工)
資料名： 日本材料科学会学術講演大会講演予稿集  (日本材料科学会主催学術講演大会講演予稿集)
巻： 2018  ページ： 75  発行年： 2018年05月31日 
JST資料番号： L5505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 基板 ,  *電子照射 ,  *金属薄膜 ,  テルル化物 ,  ビスマス化合物 ,  アンチモン化合物 ,  微細構造 ,  結晶構造 ,  *熱電気変換
準シソーラス用語： ガラス基板 ,  *合金薄膜 ,  *テルル化ビスマス ,  *テルル化アンチモン

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  熱電デバイス  (NC03090J)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子線照射 ,  ビスマス ,  テルル ,  合金薄膜 ,  微細結晶 ,  評価