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J-GLOBAL ID：201802226823922524   整理番号：18A1013166

X線散乱法によるDouble Networkゲルの延伸過程における内部構造の評価

著者 (9件)： 深尾一城 (北大 大学院) ,  野々山貴行 (北大 大学院) ,  野々山貴行 (北大 GI-CoRE) ,  中島祐 (北大 大学院) ,  中島祐 (北大 GI-CoRE) ,  黒川孝幸 (北大 大学院) ,  黒川孝幸 (北大 GI-CoRE) ,  GONG Jian Ping (北大 大学院) ,  GONG Jian Ping (北大 GI-CoRE)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2Pc037  発行年： 2018年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲル ,  応力歪曲線 ,  ポリアクリルアミド ,  架橋剤 ,  ネットワーク構造 ,  分子構造 ,  小角X線散乱 ,  内部構造 ,  延伸
準シソーラス用語： *ダブルネットワークゲル ,  ポリジメチルアクリルアミド

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (1件)： 2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸

タイトルに関連する用語 (6件)： X線散乱 ,  ゲル ,  延伸 ,  過程 ,  内部構造 ,  評価