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J-GLOBAL ID：201802258286423048   整理番号：18A1233850

オレフィンのヒドロシリル化反応に高活性を発現するRh錯体と第三級アミンのシリカ表面への共存固定法

著者 (5件)： 前田恭吾 (東京工大) ,  本倉健 (東京工大) ,  上村洋平 (岡崎国立共同研究機構 分子科研) ,  松村大樹 (日本原子力研究開発機構) ,  CHUN Wang-Jae (国際基督教大 教養)
資料名： 日本化学会春季年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 98th  ページ： ROMBUNNO.2C3-05  発行年： 2018年03月06日 
JST資料番号： S0493B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： シリカに固定したRh錯体の近傍に第三級アミンを導入することで,Rh錯体のみ固定した場合と比較して,ヒドロシリル化反応がより高効率で進行することがわかっている。使用する溶媒や固定化順序等,Rh錯体と第三級アミンの共存固定法を種々検討し,触媒活性との関連を調査したところ,固定化に用いる溶媒をトルエンからエーテル系溶媒に変更したことで触媒活性が約1.5倍に向上した。加えて,固定化方法とRh錯体構造の関連をRh K殻XAFS測定によって解析した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ヒドロシリル化 ,  *オレフィン化合物 ,  第三アミン ,  有機溶媒 ,  溶媒効果 ,  XAFS ,  陽子磁気共鳴 ,  *ロジウム錯体 ,  二酸化ケイ素 ,  触媒活性 ,  *有機ケイ素化合物 ,  酸素複素環化合物 ,  アルキルベンゼン
準シソーラス用語： シリカ ,  固定化

分類 (3件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  有機けい素化合物  (CF08030C) ,  均一系触媒反応  (CB06090Q)

物質索引 (6件)： アリルベンゼン ,  ジオキサン ,  シクロペンチルメチルエーテル ,  トルエン ,  メチルビス(トリメチルシリルオキシ)シラン ,  [3-[メチルビス(トリメチルシリルオキシ)シリル]プロピル]ベンゼン

タイトルに関連する用語 (9件)： オレフィン ,  ヒドロシリル化反応 ,  活性 ,  発現 ,  Rh ,  錯体 ,  第三級アミン ,  シリカ ,  共存