特許
J-GLOBAL ID：201803011304160915
多孔性配位高分子複合体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
加藤 久
, 久保山 隆
, 遠坂 啓太
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-141597
公開番号（公開出願番号）：特開2016-017055
特許番号：特許第6320207号
出願日： 2014年07月09日
公開日（公表日）： 2016年02月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 多孔性配位高分子を溶媒中で合成する多孔性配位高分子の合成工程と、
前記合成工程で合成される多孔性配位高分子を超臨界二酸化炭素により乾燥することで細孔維持された多孔性配位高分子を得る乾燥工程と、
前記乾燥工程で得られる細孔維持された多孔性配位高分子と有効物質とを混合した混合物質を、超臨界二酸化炭素および有機溶媒の混合流体により処理することで、前記細孔維持された多孔性配位高分子に、前記有効物質を含浸させる含浸工程とを有し、
前記多孔性配位高分子が、ジカルボン酸および/またはトリカルボン酸からなる群から選択される少なくとも1以上の有機配位子と、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Al、Mgからなる群から選択される少なくとも1以上の金属のイオンからなる多孔性配位高分子であることを特徴とする
有効物質を多孔性配位高分子に高濃度で含浸させた多孔性配位高分子複合体の製造方法。
IPC (7件)：
C07C 57/30 ( 200 6.01)
, C07C 63/28 ( 200 6.01)
, C07C 63/307 ( 200 6.01)
, C07F 15/02 ( 200 6.01)
, A61K 31/192 ( 200 6.01)
, A61K 9/22 ( 200 6.01)
, A61K 47/30 ( 200 6.01)
C07C 57/30
, C07C 63/28
, C07C 63/307
, C07F 15/02
, A61K 31/192
, A61K 9/22
, A61K 47/30
