ダイヤモンドコンタクト構造とこれを用いた電子素子

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出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：安部誠 , 大井道子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-161890
公開番号（公開出願番号）：特開2018-032662
出願日： 2016年08月22日
公開日（公表日）： 2018年03月01日
要約：

【課題】ノーマリーオフ動作の実現に有用な新規なダイヤモンドコンタクト構造と、かかる構造を利用した電子素子とを提供する。【解決手段】ダイヤモンド基板10と第1酸化物層12とを備えるダイヤモンドコンタクト構造1が提供される。ダイヤモンド基板10は、自然正孔を含み、互いに離間する第1p型領域P1と第2p型領域P1とを少なくとも表面に備えており、第1酸化物層12は、これらp型領域P1,P2間に備えられる。また、第1酸化物層12は、ダイヤモンドの価電子帯よりも高エネルギー側に最低空軌道を有する第1金属酸化物からなり、第1酸化物層12に接するダイヤモンド基板10の表面は、自然正孔が含まれない非p型領域である。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

自然正孔を含み、互いに離間する第1p型領域と第2p型領域とを少なくとも表面に備えるダイヤモンド基板と、前記第1p型領域と前記第2p型領域との間の前記ダイヤモンド基板上に備えられ、ダイヤモンドの価電子帯よりも高エネルギー側に最低空軌道を有する第1金属酸化物からなる第1酸化物層と、を備え、前記第1酸化物層に接する前記ダイヤモンド基板の表面は、前記自然正孔が含まれない非p型領域である、ダイヤモンドコンタクト構造。

IPC (5件)：

H01L 21/283 , H01L 21/336 , H01L 29/78 , H01L 21/28 , H01L 21/316

FI (4件)：

H01L21/283 C , H01L29/78 301S , H01L21/28 301B , H01L21/316 X

Fターム (41件)：

4M104AA10 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB05 , 4M104BB06 , 4M104BB08 , 4M104BB09 , 4M104BB18 , 4M104BB36 , 4M104DD43 , 4M104DD63 , 4M104DD68 , 4M104EE03 , 4M104EE16 , 4M104GG09 , 5F058BA20 , 5F058BB10 , 5F058BC02 , 5F058BC03 , 5F058BF02 , 5F140AA01 , 5F140AA02 , 5F140AC01 , 5F140BA04 , 5F140BA20 , 5F140BD05 , 5F140BD11 , 5F140BD13 , 5F140BF01 , 5F140BF05 , 5F140BF06 , 5F140BF07 , 5F140BG28 , 5F140BJ10 , 5F140BJ11 , 5F140BJ15 , 5F140BJ20 , 5F140BK08 , 5F140BK11 , 5F140BK30 , 5F140CE02

引用特許：

審査官引用 (4件)

ダイヤモンド電界効果トランジスタ及びその作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-035398 出願人：日本電信電話株式会社
電力素子、電力制御機器、電力素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2013-047025 出願人：学校法人早稲田大学
ダイヤモンド膜の製造方法およびそれを用いた電子デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-042603 出願人：日本電信電話株式会社

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引用文献：

審査官引用 (3件)

"Normally-off HfO2-gated diamond field effect transistors"
"Control of normally on/off characteristics in hydrogenated diamond metal-insulator-semiconductor fi
"Normally-off HfO2-gated diamond field effect transistors"

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