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J-GLOBAL ID：201902272625637013   整理番号：19A1063116

PVA保護Niコロイドを用いたシリカ担持Niナノクラスター触媒の調製と水性ガスシフト反応への応用

著者 (4件)： 西村学 (千葉大) ,  一國伸之 (千葉大) ,  原孝佳 (千葉大) ,  島津省吾 (千葉大)
資料名： 触媒討論会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 123rd  ページ： ROMBUNNO.2P12  発行年： 2019年03月08日 
JST資料番号： F1143B  ISSN： 2187-5928  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Polyvinylalcohol(PVA)保護NiコロイドをSiO₂に担持し,水素還元処理を施し,担持Niナノクラスター触媒を調製した.調製した触媒はアルコキシドやpolyvinylpyrrolidoneを保護材に用いたコロイドにより調製したNi触媒と比較して水性ガスシフト反応(WGSR)に高い活性を示した.PVAが他の保護剤より高い保護作用を示し,微小なNiナノクラスター創製を可能にすることがわかった.(著者抄録)

シソーラス用語： ポリビニルアルコール ,  二酸化ケイ素 ,  *ナノクラスタ ,  触媒調製 ,  *一酸化炭素変成 ,  *ニッケル触媒 ,  *担持触媒 ,  触媒活性 ,  触媒反応

分類 (1件)： その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (9件)： Ni ,  コロイド ,  シリカ ,  担持 ,  ナノクラスター ,  触媒 ,  調製 ,  水性ガスシフト反応 ,  応用