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J-GLOBAL ID:201902292017660733   整理番号:19A0387993

CuAlS2:Mn蛍光体薄膜を用いた電流注入型発光素子-SiO2バリア層による下地電極/発光層間の界面拡散の抑制-

Current injection type emission devices using CuAlS2:Mn phosphor thin films-SiO2 barrier layer suppressing interfacial diffusion between phosphor/electrode layer-
著者 (4件):
資料名:
巻: 118  号: 422(EID2018 8-20)  ページ: 81-84  発行年: 2019年01月17日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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本研究ではCuAlS2:Mn多結晶蛍光体薄膜を用いた赤色発光素子の作製を目指す。CuAlS2:Mn薄膜は基板温度600°Cの電子線蒸着法により作製した。CuAlS2:Mn層の成膜中におけるCuAlS2:Mn/ZnO間の界面拡散を抑制するためにSiO2バリア層が有効であることを確認した。SiO2バリア層によりSEM観察から比較的滑らかな界面が確認され,PL強度も大幅に増加した。(著者抄録)
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分類 (1件):
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発光素子 
引用文献 (4件):
  • Y. Miyamoto, T. Honma, K. Ohmi, Jpn. J. Appl. Phys., 50 102401 (2011).
  • 川口英紀,足立尚義,石垣 雅,大観光徳,映像情報メディア学会技術報告,ITE Technical Report IDY2014-41,5(2015).
  • 大島祐樹,川口英紀,大観光徳,映像情報メディア学会技術報告,ITE Technical Report, 38, IDY2013-24,97(2014)
  • A. Miyake, H. Kominami, T. Aoki, N. Azuma, Y. Nakanishi and Y. Hatanaka, 表面科学, 23, 492 (2002).

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