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文献
J-GLOBAL ID：200902000105784084
整理番号：81A0313375
Ne,Ar,Kr,XeおよびAr+H2を用いて円筒型マグネトロンスパッタリングによって蒸着した無定形シリコン膜の内部応力
Internal stresses in amorphous silicon films deposited by cylindrical magnetron sputtering using Ne,Ar,Kr,Xe, and Ar+H2.
THORNTON J A
(Telic Corp., California)
,
HOFFMAN D W
(Ford Motor Co., Michigan)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology
(Journal of Vacuum Science & Technology)
巻： 18 号： 2 ページ： 203-207 発行年： 1981年03月
JST資料番号： C0789A ISSN： 0022-5355 CODEN： JVSTAL 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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