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文献
J-GLOBAL ID：200902000584269822
整理番号：88A0592329
高感度,耐ドライエッチ性の塩基現像レジストの設計のための新しいポリマ溶解抑制剤
Novel polymeric dissolution inhibitor for the design of sensitive, dry etch resistant, base-developable resist.
ITO H
(IBM Research Division, CA, USA)
,
FLORES E
(IBM Research Division, CA, USA)
,
RENALDO A F
(IBM Research Division, CA, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 135 号： 9 ページ： 2328-2333 発行年： 1988年09月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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