文献
J-GLOBAL ID:200902001886820230
整理番号:90A0626382
シリコンと金属への鉄の高線量打込み
High-dose iron implantation into silicon and metals.
著者 (4件):
MUELLER G
(Technische Hochschule Darmstadt, Darmstadt, DEU)
,
KLINGELHOEFER G
(Technische Hochschule Darmstadt, Darmstadt, DEU)
,
SCHWALBACH P
(Technische Hochschule Darmstadt, Darmstadt, DEU)
,
KANKELEIT E
(Technische Hochschule Darmstadt, Darmstadt, DEU)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
50
号:
1/4
ページ:
384-390
発行年:
1990年04月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)