文献
J-GLOBAL ID:200902002038062080
整理番号:92A0057462
一葉ウエハCVD酸化膜反応器中の下流での粒子モニタ
Monitoring downstream particles in a single-wafer CVD oxide reactor.
著者 (3件):
STERN J E
(IBM General Technology Division, VT)
,
DOPP D J
(IBM General Technology Division, NY)
,
WU J J
(IBM Advanced Semiconductor Technology Center, NY)
資料名:
Microcontamination
(Microcontamination)
巻:
9
号:
11
ページ:
17-19,56
発行年:
1991年11月
JST資料番号:
D0679B
ISSN:
0738-713X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)