文献
J-GLOBAL ID:200902002532865667
整理番号:88A0048550
水素原子とモノシランの反応によるトリ-またはテトラシランの生成機構ならびにSi2H4同位体の熱化学
Mechanism of formation of tri- and tetrasilane in the reaction of atomic hydrogen with monosilane and the thermochemistry of the Si2H4 isomers.
著者 (2件):
BECERRA R
(Univ. Reading, Reading, GBR)
,
WALSH R
(Univ. Reading, Reading, GBR)
資料名:
Journal of Physical Chemistry
(Journal of Physical Chemistry)
巻:
91
号:
22
ページ:
5765-5770
発行年:
1987年10月22日
JST資料番号:
C0334A
ISSN:
0022-3654
CODEN:
JPCHAX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)