文献
J-GLOBAL ID:200902002708017269
整理番号:88A0014936
a-Si:H薄膜析出へのプラズマ励起周波数の影響
Influence of plasma excitation frequency for a-Si:H thin film deposition.
著者 (4件):
CURTINS H
(Univ. Neuchatel, Neuchatel, CHE)
,
WYRSCH N
(Univ. Neuchatel, Neuchatel, CHE)
,
FAVRE M
(Univ. Neuchatel, Neuchatel, CHE)
,
SHAH A V
(Univ. Neuchatel, Neuchatel, CHE)
資料名:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
(Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻:
7
号:
3
ページ:
267-273
発行年:
1987年09月
JST資料番号:
H0836A
ISSN:
0272-4324
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)