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文献
J-GLOBAL ID：200902002854423414
整理番号：92A0233159
高ドーズの酸素注入によるSi0.5Ge0.5合金中の酸化物の形成
Synthesis of oxides in Si0.5Ge0.5 alloy by high dose oxygen ion implantation.
CASTLE J E
(Univ. Surrey, Surrey, GBR)
,
LIU H D
(Univ. Surrey, Surrey, GBR)
,
WATTS J F
(Univ. Surrey, Surrey, GBR)
,
HEMMENT P L F
(Univ. Surrey, Surrey, GBR)
,
ZHANG J P
(Univ. Surrey, Surrey, GBR)
,
NEWSTEAD S M
(Univ. Warwick, Coventry, GBR)
,
POWELL A R
(Univ. Warwick, Coventry, GBR)
,
WHALL T E
(Univ. Warwick, Coventry, GBR)
,
PARKER E H C
(Univ. Warwick, Coventry, GBR)
資料名：
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology
(Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻： 12 号： 1/2 ページ： 199-203 発行年： 1992年01月20日
JST資料番号： T0553A ISSN： 0921-5107 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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