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文献
J-GLOBAL ID：200902002868483126
整理番号：82A0132577
反応性dcプラズマトロンスパッタリングで作製したTiO2の光学的および構造的特性に対する蒸着条件の影響
Influence of deposition parameters on the optical and structural properties of TiO2 films produced by reactive d.c. plasmatron sputtering.
SCHILLER S
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
BEISTER G
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
SIEBER W
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
SCHIRMER G
(Friedrich-Schiller-Univ. Jena, G.D.R.)
,
HACKER E
(Friedrich-Schiller-Univ. Jena, G.D.R.)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 83 号： 2 ページ： 239-245 発行年： 1981年09月11日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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