文献
J-GLOBAL ID:200902002897277667
整理番号:92A0654184
Frequency effects in silane plasmas for plasma enhanced chemical vapor deposition.
著者 (5件):
HOWLING A A
(CRPP/EPFL, Lausanne, CHE)
,
DORIER J-L
(CRPP/EPFL, Lausanne, CHE)
,
HOLLENSTEIN C
(CRPP/EPFL, Lausanne, CHE)
,
KROLL U
(IMT, Neuchatel, CHE)
,
FINGER F
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
10
号:
4 Pt 1
ページ:
1080-1085
発行年:
1992年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)