文献
J-GLOBAL ID:200902006183549669
整理番号:92A0634043
Two-photon lithography for microelectronic application.
著者 (4件):
WU E S
(Univ. Maryland Baltimore County, MD)
,
STRICKLER J H
(Cornell Univ., NY)
,
HARRELL W R
(Microelectronics Research Lab., MD)
,
WEBB W W
(Cornell Univ., NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1674
号:
Pt 2
ページ:
776-782
発行年:
1992年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)