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文献
J-GLOBAL ID：200902006484173842
整理番号：85A0056754
ICのフォトリソグラフィパタンにおける欠陥のモデル化
Modeling of defects in integrated circuit photolithographic patterns.
STAPPER C H
(International Business Machines Corp.)
資料名：
IBM Journal of Research and Development
(IBM Journal of Research and Development)
巻： 28 号： 4 ページ： 461-475 発行年： 1984年07月
JST資料番号： D0061B ISSN： 0018-8646 CODEN： IBMJAE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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