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文献
J-GLOBAL ID：200902007649108303
整理番号：92A0168866
化学増幅型フォトレジスト用の高特性アクリル系高分子
High performance acrylic polymers for chemically amplified photoresist applications.
ALLEN R D
(IBM Research Division, California)
,
WALLRAFF G M
(IBM Research Division, California)
,
HINSBERG W D
(IBM Research Division, California)
,
SIMPSON L L
(IBM Systems Technology Division, New York)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 9 号： 6 ページ： 3357-3361 発行年： 1991年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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