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文献
J-GLOBAL ID：200902007810147438
整理番号：90A0804457
Silylation processes for 193-nm excimer laser lithography.
HARTNEY M A
(Massachusetts Inst. Technology, MA)
,
KUNZ R R
(Massachusetts Inst. Technology, MA)
,
EHRLICH D J
(Massachusetts Inst. Technology, MA)
,
SHAVER D C
(Massachusetts Inst. Technology, MA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 1262 ページ： 119-130 発行年： 1990年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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