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J-GLOBAL ID：200902008555992184 整理番号：92A0670246

CZ,FZおよびEPIウエハの表面微小粗さの湿式化学処理に対する依存性

Dependence of Surface Microroughness of CZ, FZ, and EPI Wafers on Wet Chemical Processing.

著者 (4件)：

MIYASHITA M

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

TUSGA T

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

MAKIHARA K

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

OHMI T

(Tohoku Univ., Sendai, JPN)

資料名：

Journal of the Electrochemical Society (Journal of the Electrochemical Society)

巻： 139 号： 8 ページ： 2133-2142 発行年： 1992年08月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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