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文献
J-GLOBAL ID：200902010373519542
整理番号：87A0244356
窒化アルミニウムチタン膜 TiN被覆膜に対する新しい代替膜
Titanium aluminum nitride films : A new alternative to TiN coatings.
MUENZ W-D
(Leybold-Heraeus GmbH, Hanau, DEU)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 4 号： 6 ページ： 2717-2725 発行年： 1986年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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